快科技7月24日消息，据清华大学官网介绍，日前，清华大学化学系许华平教授团队在极紫外（EUV）光刻材料上取得重要进展，开发出一种基于聚碲氧烷的新型光刻胶，为先进半导体制造中的关键材料提供

　　快科技7月2日消息，据媒体报道，2023年末ASML向英特尔交付了首台High-NA EUV光刻机，业界普遍认为，High-NA EUV光刻技术将在先进芯片开发和下一代处理器的生产中发挥关键作用。 不过这种情况最

　　快科技6月29日消息，全球最大半导体设备龙头ASML已着手研发下一代Hyper NA EUV先进光刻机，为未来十年的芯片产业做准备。 Jos Benschop表示龙8long8，ASML及独家光学合作伙伴蔡司（Carl Zeiss）正在研究

　　快科技5月30日消息，大家都知道，当下先进工艺（尤其是7nm以下），基本都依赖ASML的EUV极紫外光刻机。 按照传统认知，没有EUV就造不出先进工艺，那有没有其他办法呢。 前段时间，世界上就有一

　　快科技4月14日消息，Intel前任CEO帕特基辛格已经找到了新工作！本人亲自宣布，已经加盟xLight担任执行董事长。 xLight是一家半导体行业创业公司，主要业务室面向EUV极紫外光刻机，开发

　　快科技2月26日消息，美光宣布，基于最新1纳米工艺的DDR5 DRAM内存芯片已经投产，性能、能效、密度等各项指标都大幅提升。 DRAM内存行业的节点工艺一直不标注具体数值，龙8hk登录而是1a、1b、1c、

　　快科技2月26日消息，ASML Twinscan EXE:5000 EUV是当今世界上最先进的EUV极紫外光刻机，支持High-NA也就是高孔径，Intel去年抢先拿下了第一台，目前已经在俄勒冈州Fab D1晶圆厂安装部署了两台，

　　快科技1月24日消息，据国内媒体报道称，荷兰首相斯霍夫日前接受采访时表示，在荷兰光刻机巨头阿斯麦对华出口产品的问题上，荷兰政府希望自行决定实施什么样的政策。 “美国拜登政府就限制

　　美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）宣布开发出了一种名称为大孔径铥 （BAT） 激光器，旨在为极紫外 （EUV） 光刻技术的下一步发展奠定基础。 该激光器的效率号称是目前ASML EUV光刻机中使用

　　快科技1月6日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）正在研究一种效率比传统CO2 EUV激光器高10倍的激光器，这将为下一代EUV光刻技术发展奠定基础。 据报道，LLNL正在研发的是一种拍瓦级（